Portugalete, 16 - 19 de junio de 2026
Espectroscopía Fotoelectrónica de Rayos X (XPS)
La Espectroscopía Fotoelectrónica de Rayos X (XPS) es una técnica de análisis no destructiva ampliamente utilizada en la caracterización química de superficies de materiales, que permite obtener información sobre los elementos presentes en la superficie, así como sobre su estado de oxidación y/o entorno químico (coordinación). Se pueden llevar a cabo también estudios de distribución de elementos en función de la profundidad de la muestra, de manera destructiva (mediante Ar sputtering, que alcanza mayor profundidad) o no destructiva (XPS con resolución angular). Se puede analizar mediante XPS todo tipo de superficies sólidas compatibles con sistemas de alto vacío, en áreas de aplicación tan diversas como estudios de adhesión, catálisis, corrosión, tratamientos superficiales, electrónica, metalurgia, segregación superficial, análisis de deposición de capas, entre otras muchas.
Ponentes
Mª Belén Sánchez Martínez de Ilárduya
Servicios Generales de Investigación (SGIker), UPV/EHU
Mª Belén Sánchez es doctora en Química Analítica por la UPV/EHU. Ha iniciado su carrera profesional en el Centro de Investigación Cooperativa en Biomateriales (CIC biomaGUNE) y, desde 2012, trabaja como técnica especializada en Espectroscopía Fotoelectrónica de Rayos X (XPS) en los Servicios Generales de Investigación (SGIker) de la UPV/EHU.
